Tuotetieto
Indy Beauty Cica Protecting Moisturiser
Indy Beauty Cica Protecting Moisturiser on suojaava, kosteuttava ja ihon suojakerrosta vahvistava päivävoide, joka sisältää centella asiaticaa (cica) ja 2% niasiiniamidia.
Niasiiniamidi stimuloi kollageenin tuotantoa, parantaa ihon suojatoimintoa ja tasoittaa ihon sävyä, kun taas K-beautysta tuttu suosittu ainesosa centella asiatica, eli Cica, rauhoittaa ihoa, vähentää punoitusta ja toimii antioksidanttina ehkäisten ihon ennenaikaista vanhenemista. Pantenoli, hyaluronihappo ja allantoiini tekevät tästä päivävoiteesta, joka toimii ympäri vuoden ja antaa pitkäkestoisen kosteutetun tunteen.
PÄÄAINESOSAT:
Niasiiniamidi: Rauhoittaa ja vahvistaa ihoa samalla kun se voi vähentää punoitusta ja epätasaista ihonsävyä.
Centella asiatica (cica): Rauhoittava antioksidantti, suosittu K-beautyssa ja perinteisessä kiinalaisessa lääketieteessä.
Pantenoli: Kosteuttaa ja auttaa säilyttämään ihon kosteustasapainon pehmeän ja joustavan tunteen saavuttamiseksi.
Allantoiini: Toimii rauhoittavasti ja kosteuttavasti, mikä tekee siitä sopivan ärsytyksen ja punoituksen vähentämiseen.
Hyaluronihappo: Tehokas kosteuttava aine, joka sitoo vettä ihoon parantaen elastisuutta ja antaen kosteutetun ihon tunteen.
Käyttö
Levitä ihonhoitorutiinisi viimeisenä vaiheena päivällä. Levitä uudelleen kahden tunnin välein saadaksesi parhaan mahdollisen UV-suojan. Vältä levittämistä liian lähelle silmiä.
Ainesosat
Aqua, C15-19 Alkane, Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate, Ethylhexyl Salicylate, Ethylhexyl Triazone, Dicaprylyl Ether, Polymethyl Methacrylate, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Niacinamide, Squalane, Synthetic Fluorphlogopite, Disodium Cetearyl Sulfosuccinate, Glyceryl Stearate, Centella Asiatica Leaf Extract, Sodium Hyaluronate, Panthenol, Allantoin, Pantolactone, Tocopheryl Acetate, Butylene Glycol, Tocopherol, Squalene, Glycine Soja Oil, Beta-Sitosterol, Xanthan Gum, Aminomethyl Propanol, Lauroyl Lysine, Caprylyl Glycol, Citric Acid, Sodium Laureth Sulfate, Phenoxyethanol